解析CKD電磁閥保養(yǎng)方法和使用技巧您是否了解？
    它兩都是我們生活中常見的管道控制閥門，被廣泛應用于各行各業(yè)。那么這兩種閥門有什么區(qū)別呢？下面就是詳細介紹。
    CKD電磁閥的啟閉件是閘板，閘板的運動方向與流體方向相垂直，閘閥只能作全開和全關，不能作調(diào)節(jié)和節(jié)流。閘板有兩個密封面，較常用的模式閘板閥的兩個密封面形成楔形、楔形角隨閥門參數(shù)而異，通常為50，楔式閘閥的閘板可以做成一個整體，叫做剛性閘板；也可以做成能產(chǎn)生微量變形的閘板，以改善其工藝性，彌補密封面角度在加工過程中產(chǎn)生的偏差，這種閘板叫做彈性閘板，一般為法蘭連接。
    CKD電磁閥用于固體物料的控制，往往是在罐底做為放料閥來用的，如水泥罐、石粉罐等的罐底，用來放料與快速切斷。因為粉塵物料大多含有或大或小的顆粒，對閥門密封面的磨損是毋庸置疑的，選型不當，會大大降低閥門的使用壽命，或很快造成閥門內(nèi)漏，影響繼續(xù)使用。
CKD電磁閥是采用外進技術及本公司多改進設計。以碳鋼為主要材質(zhì)，閥體采用厚壁無縫管焊接而成，閥板為球墨鑄鐵，可靠，比鑄鐵   為堅固耐用，外觀   加美觀，而且價格   ，又具備與管件連接所希求的快捷性?？蓮V泛應用于給排水、消防、石油、化工、醫(yī)藥、鋼鐵等管路上作為截斷或調(diào)節(jié)之用。
    CKD電磁閥是現(xiàn)在管道連接中常見的一種信號閥門，因為其小巧便捷、安裝簡單、密封等受到用戶的喜愛，下面介紹下溝槽蝶閥的安裝和維護注意事項。
    1、   溝槽閥門帶傳動機構的閘閥，按產(chǎn)品使用說明書的規(guī)定安裝。
    2、CKD電磁閥安裝位置、度   符合設計要求，連接應牢固緊密。
    3、CKD電磁閥應垂直安裝（即閥桿處于垂直位置，手輪在頂部）。
    4、對于CKD電磁閥帶有旁通閥的閘閥在開啟前應打開旁通閥（以平衡進出1：3的壓差及減小開啟力）。
    5、溝槽閥門安裝在保溫管道上的各類手動閘閥，手柄均不得向下。
    6、溝槽閥門安裝前   進行外觀檢查，閥門的銘牌應符合現(xiàn)行   標準《通用閥門標志》GB12220的規(guī)定。
    7、在閘閥的手輪、手柄及傳動機構均不允許作起吊用，并嚴禁碰撞。
    8、此外，溝槽閥門如果閥門經(jīng)常開關使用，每月少潤滑一。
    閥門蝶閥適用于流量調(diào)節(jié)。由于蝶閥在管路中的壓力損失比較大，大概是閘閥的三倍，因此在選擇溝槽閥門時，應充分考慮管路系統(tǒng)受壓力損失的影響，還須考慮關閉時蝶板承受管道介質(zhì)壓力的堅固性。此外，還   考慮在溫下彈性閥座的材料所承受工作溫度的限制。溝槽閥門的結構長度和總體度較小，開啟和關閉速度快，且具有良的流體控制特性，溝槽閥門的結構原理較適合制作大口徑閥門。當要求溝槽閥門作控制流量使用時，較重要的時正確選擇溝槽閥門的尺寸和類型，使之溝槽閥門能恰當?shù)?、有效地工作?br />    CKD電磁閥的使用方法：
    1、導閥的節(jié)流和動作部分要盡量避免設置特小口徑的孔口，以免堵塞。必要時要加濾網(wǎng)，定期檢修及設置旁通管路。這種閥門發(fā)展、使用前景看。
    2、CKD電磁閥是以管道本身介質(zhì)壓力作為動力源，進行啟閉、調(diào)節(jié)，把前導閥及系統(tǒng)小管路不同組合，就能具有近30種功能，現(xiàn)在逐漸得到較普遍的使用。
    3、控制閥的結構特性是閥芯的位移與流體通過的截面積之間的關系，他不考慮控制閥兩端的壓降。因此，只與閥芯的形狀、大小等幾何因子有關?？刂崎y的流量特性，有線性、等百分比、拋物線、雙曲線、快開、平方根等不同類型。常用的固有流量特性有線性、等百分比、快開等幾種。
    4、CKD電磁閥上的灰塵適用于毛刷拂掃和壓縮空氣吹掃；梯形螺紋和齒間的臟物適于抹布擦洗；閥門上的油污和介質(zhì)殘漬適于蒸汽吹掃，甚用銅絲刷刷洗，直加工面，配合面顯出金屬光澤，油漆面顯出油漆本色為止。疏水閥應有專人負責，每班少檢查一，定期打開沖洗閥和疏水閥底的堵頭進行沖洗，或定期拆卸沖洗，以免臟物堵塞閥門。
    CKD電磁閥采用蝸輪，蝸桿傳動，隨之凸輪轉動按預定位置將信號裝置上觸頭壓下或放開，相應輸出"通""斷"電信號，指示蝶閥的啟閉狀態(tài)。閥體為球墨鑄鐵，外觀采用粉末環(huán)氧樹脂噴涂，蝶板采用整體包膠，抗老化，經(jīng)久耐用，彈性記憶及使用壽命長。溝槽閥門閥體呈圓筒狀，結構長度短，內(nèi)置蝶板。蝶板呈圓盤狀，是蝶閥的啟閉件，能繞閥休內(nèi)的軸線旋轉。蝶閥與旋塞閥、球閥的啟閉方式相同，蝶板只要轉過90度，便能完成一啟閉。改變蝶板的偏轉角度，即可控制介質(zhì)的流址大小。