Z全的ODE電磁閥腐蝕知識詳解分析
腐蝕是引起ODE電磁閥閥門損壞的重要因素,因此,在閥門使用中,防腐保護(hù)是考慮的問題。下面將跟大家一起了解閥門腐蝕的原因及解決措施。
腐蝕是材料在各種環(huán)境的作用下發(fā)生的破壞和變質(zhì)。金屬的腐蝕主要是化學(xué)腐蝕和點(diǎn)化學(xué)腐蝕引起的,非金屬材料的腐蝕一般是直接的化學(xué)和物理作用引起的破壞。
一、ODE電磁閥閥門腐蝕的形態(tài)
金屬ODE電磁閥閥門腐蝕有兩種形態(tài),即均勻腐蝕和局部腐蝕。均勻腐蝕的速度可用年平均腐蝕率來評價(jià)。金屬材料,石墨、玻璃、陶瓷和混凝土,按腐蝕率大小分4個(gè)等:腐蝕速度小于0.05mm/a的為良;腐蝕速度在0.05~0.5mm/a的為良;腐蝕速度在0.5~1.5mm/a的尚可使用;腐蝕速度大于1.5mm/a的為不適用
1、均勻腐蝕
均勻腐蝕是在金屬的全部表面上進(jìn)行。如不銹鋼、鋁、鈦等在氧化環(huán)境中產(chǎn)生的一層保護(hù)膜,膜下金屬狀態(tài)腐蝕均勻。還有一種現(xiàn)象,金屬表面腐蝕剝落,這種腐蝕Z危險(xiǎn)的。
2、局部腐蝕
ODE電磁閥局部腐蝕發(fā)生在金屬的局部位置上,它的形態(tài)有孔蝕、縫隙腐蝕、晶間腐蝕、脫層腐蝕、應(yīng)力腐蝕、疲勞腐蝕、選擇性腐蝕、磨損腐蝕、空泡腐蝕、摩振腐蝕、氫蝕等。
點(diǎn)蝕通常發(fā)生在鈍化膜或保護(hù)膜的金屬上,是由于金屬表面存在缺陷,溶液中能破壞鈍化膜的活性離子,使鈍化膜局部破壞,伸入金屬內(nèi)部,成為蝕孔,它是金屬破壞性和隱患Z大的腐蝕形態(tài)。
縫隙腐蝕發(fā)生在焊、鉚、墊片或沉淀物下面等環(huán)境,它是孔蝕的一種特殊形態(tài)。防止方法是消除縫隙。
ODE電磁閥腐蝕是從表面沿晶界深入金屬內(nèi)部,使晶界呈網(wǎng)狀腐蝕。產(chǎn)生晶間腐蝕除晶界沉淀積雜質(zhì)外,主要是熱處理和冷加工不當(dāng)所致。奧氏體不銹鋼的焊接縫兩側(cè)容易產(chǎn)生貧鉻區(qū)而遭到腐蝕。奧氏體不銹鋼晶間腐蝕是常見的和Z危險(xiǎn)的腐蝕形態(tài)。防止奧氏體不銹鋼閥件產(chǎn)生晶間腐蝕方法有:進(jìn)行“固溶淬火”處理,即加熱1100℃左右水淬,選用含有鈦和鈮,而含碳量在0.03%以下的奧氏體不銹鋼,減少碳化鉻的產(chǎn)生。
脫層腐蝕發(fā)生在層狀結(jié)構(gòu)中,腐蝕垂直向內(nèi)發(fā)展,后腐蝕表面平行的物質(zhì),在腐蝕物的脹力下,使表面呈層狀剝落。
應(yīng)力腐蝕發(fā)生在腐蝕和拉應(yīng)力同時(shí)作用下產(chǎn)生的破裂。防止應(yīng)力腐蝕的方法;通過熱處理消除或減少焊接,冷加工中產(chǎn)生的應(yīng)力,改進(jìn)不可理的閥門結(jié)構(gòu),避免應(yīng)力集中,采用電化學(xué)保護(hù)、噴刷防蝕涂料。添加緩蝕劑、施加壓應(yīng)力等措施。
腐蝕疲勞發(fā)生在交變應(yīng)力腐蝕的共同作用的部位,使金屬破裂??蛇M(jìn)行熱處理消除或減少應(yīng)力,表面噴丸處理以及電鍍鋅、鉻、鎳等,但要注意鍍層不可有拉應(yīng)力和氫擴(kuò)散現(xiàn)象。
選擇性腐蝕發(fā)生在不同成分和雜質(zhì)的材料中,在一定環(huán)境中,有一部分元素被腐蝕浸出,剩下未腐蝕的元素呈海綿狀。常見有黃銅脫鋅、銅合金脫鋁、鑄鐵石墨化等。
磨損腐蝕是流體對金屬磨損和腐蝕交替作用所產(chǎn)生的一種腐蝕形態(tài),是閥門常見的一種腐蝕,這種腐蝕以發(fā)生在密封面為多。防止方法:選用耐腐蝕、耐磨損的材料,改進(jìn)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),采用陰極保護(hù)等。
空泡腐蝕又稱空蝕和氣蝕,是磨損腐蝕的一種特殊形態(tài)。它是流體中產(chǎn)生的氣泡,在破滅時(shí)產(chǎn)生的沖擊波,壓力可達(dá)400個(gè)大氣壓,使金屬保護(hù)膜破壞,甚撕裂金屬粒子。然后再腐蝕成膜,這種過程不斷反復(fù),使金屬腐蝕。防止空泡腐蝕的方法,可選用耐空泡腐蝕材料,光潔度的加工面,彈性保護(hù)層和陰極保護(hù)等。
摩振腐蝕是相互接觸的兩部件同時(shí)承受載荷,接觸面由于振動(dòng)和滑動(dòng)引起的破壞。摩振腐蝕發(fā)生在螺栓連接處,閥桿與關(guān)閉件連接處、滾珠軸承與軸之間等部位上。可以采用涂潤滑油脂,減少摩擦,表面磷化,選用硬質(zhì)合金,以及用噴瓦處理或冷加工提表面硬度方法防護(hù)。
腐蝕是化學(xué)反映中產(chǎn)生的氫原子擴(kuò)散到金屬內(nèi)部引起的破壞,其形態(tài)有氫鼓泡、氫脆和氫蝕。